扩散/氧化/退火

扩散/氧化/退火

扩散/氧化/退火炉主要用于集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的氧化、扩散、退火等工艺。我所可根据用户需求进行深度定制。

  • 8”立式炉

    8”立式炉

    主要用于半导体器件制程中的掺杂、氧化、推阱、退火、合金、薄膜沉积等工艺。

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  • 扩散氧化炉

    扩散氧化炉

    扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一,用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金和烧结等工艺。水平管式炉的设计考..

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