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微电子与半导体装备
CVD(Chemical Vapor Deposition,化学气相沉积）指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。
第三代宽紧带半导体SiC材料的同质外延生长。
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