M5111-8WKUM型高温负压氧化炉设备

产能

硅片尺寸

156×156mm方片

单管装片量

1600片/批（槽间距2.38mm）

工艺类型

高温氧化、退火工艺

温度控制系统

控温方式

5段双回路串级控制

控温范围

600℃～1100℃

恒温区长度及精度

≤±0.5℃/1600mm（801℃～1100℃）

≤±1℃/1600mm（400℃～800℃）

单点稳定性

±0.5℃/24h(静态，900℃)

炉体升降温速率

最大升温20˚C/min；最大降温5˚C/min

气路系统

流量控制方式

氮气、氧气流量由MFC控制；保护氮气由浮子流量计控制

气体控制精度

±0.5%FS

送舟机构

水平推舟速率

1～400mm/min 连续可调，定位精度≤±1mm

垂直升降速率

8～12mm/min

石英舟进出方式

软着陆、在线式（净化台侧出舟）

SiC桨最大承载

25Kg

控制系统

工艺监控方式

工业平板电脑全自动控制（触摸屏操作）

自动控温功能

具有自动斜率升降温及恒温功能

工艺历史记录功能

核心工艺参数（温度、压力、流量、功率、电流、淀积时间）每3秒记录一次，其他过程每10秒记录一次。

报警保护功能

设备具有工艺状态声光提醒，以及计算机异常、超温报警与欠温、MFC偏差、反应室压力偏差、极限超温报警和保护功能；

其他参数

设备峰值功率

280 KVA（5管）

保温功率

75 KVA（5管）

设备柜体尺寸

7440mm(长）×2020mm（宽）×3530（高）

设备利用率

≥98%