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扩散/氧化/退火

扩散/氧化/退火

扩散/氧化/退火炉主要用于集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的氧化、扩散、退火等工艺。我所可根据用户需求进行深度定制。

  • 卧式氧化炉

    卧式氧化炉

    应用于集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金和烧结等；适用工艺有扩散、氧化、退火、合金。

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  • SiC高温退火炉

    SiC高温退火炉

    用于SiC器件高温退火离子激活工艺，可适用于各种碳膜保护下的工艺要求。

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  • SiC高温氧化炉

    SiC高温氧化炉

    应用于SiCMOSFET或IGBT器件低缺陷界面和高通道迁移率的栅氧生长工艺；也可用于其他高温氧化工艺。

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  • 立式炉

    立式炉

    主要用于半导体器件制程中的掺杂、氧化、推阱、退火、合金、薄膜沉积等工艺。

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