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CVD设备

CVD设备

CVD(Chemical Vapor Deposition,化学气相沉积）指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。

  • 卧式LPCVD

    卧式LPCVD

    应用于宽禁带半导体器件、电力电子器件、光电子等行业氮化硅、多晶硅或氧化硅薄膜的制备；适用工艺有LPCVD。

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  • 立式LPCVD

    立式LPCVD

    应用于集成电路制造中的监膜氧化层、多晶硅淀积；适用工艺有TEOS、Poly、SiN。

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  • SiC外延炉

    SiC外延炉

    第三代宽紧带半导体SiC材料的同质外延生长。 超快速高质量外延生长能力；优良的生长厚度和掺杂浓度均匀性控制水平；满足向大尺寸、厚外延、低缺陷SiC外延材料发展需求。

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